Spectralon EPV漫反射材料
Spectralon®EPV用于極l端物理學和真空
近年來,越來越多的應用出現在對地場學中,不僅需要一個很大的漫反射器,而且由于能量等級及特殊環(huán)境的原因,對材料的純度要求也很高。Spectralon EPV適用于極l端物理學和真空的應用,采用新的生產和處理工藝,可為對地場學應用提供高純度的產品。
Spectralon EPV漫反射材料 應用:
高能量,低污染,可延長產品使用壽命
· 激光泵腔
· 裂變和聚變反應堆(例如:JET,NIF,PPPL)
· 應用于高能雜散光散射的“鬼影"材料
粒子加速器及相關物理實驗(例如:CERN,PPPL)
低污染的醫(yī)療方向應用
暗物質檢測室:低顆粒污染和低輻射背景水平
用于光譜學或傳感器測試的真空室
高紫外(<300nm)穩(wěn)定性
· UV LED測量
· 紫外線水消毒處理
· 深紫外光譜學
· UV聚合物材料的固化和干燥
· 3D打印固化
使用壽命預測 - 利用紫外線、溫度和濕度對材料進行快速老化
· Spectralon具有三重優(yōu)勢,針對紫外線、溫度和濕度環(huán)境下均有較高的穩(wěn)定性
規(guī)格型號:
型號 | 料號 | 描述 |
AA-01451-000 | SRS-99-010-EPV | 校準漫反射板,1" - 99% - NVLAP 認證 |
AA-01451-100 | USRS-99-010-EPV | 未校準的漫反射標準板, 1" - 99% |
AA-01451-200 | SRS-99-020-EPV | 校準漫反射版,2" - 99% - NVLAP 認證 |
AA-01451-300 | USRS-99-020-EPV | 未校準的漫反射標準板, 2" - 99% |
AA-01451-400 | SRT-99-020-EPV | 目標板, Spectralon 漫反射板 UV-VIS-NIR, 2" - 99% 250 - 2500 nm單獨中心點校準 |
AA-01451-500 | USRT-99-020-EPV | 目標板, 反射率, 無校準 2" - 99% |
AA-01451-600 | SRT-99-050-EPV | 目標板, Spectralon 漫反射板 UV-VIS-NIR, 5" - 99% 250 - 2500 nm單獨中心點校準 |
AA-01451-700 | USRT-99-050-EPV | 目標板, 反射板, 無校準, 5" - 99% |